集微网消息,三星电子今(12)日宣布已开始量产基于极紫外光(EUV)制程技术的14纳米 DRAM,继该公司于去年3月推出业界首款EUV DRAM后,三星已将EUV层的数量增加到5层,以为其DDR5解决方案提供当今最好、最先进的DRAM工艺。
据悉,随着DRAM不断缩小,EUV技术对于提高图形精度以获得更高性能和更高产量变得越来越重要。三星电子在14纳米 DRAM上使用了5层EUV,实现了最高的位密度,同时将整体晶圆生产效率提高了约20%。此外,与上一代DRAM节点相比,14纳米工艺可以降低近20%的功耗。
根据最新DDR5标准显示,三星的14纳米DRAM将开创过去产品所未有的传输速度,速度高达7.2Gbps,是DDR4的两倍多。
三星计划扩大其14纳米DDR5产品组合,以支持数据中心、超级计算机和企业服务器应用。此外,三星希望将其14纳米DRAM芯片密度提高到24Gb,以更好地满足全球IT系统快速增长的数据需求。
三星电子高级副总裁兼 DRAM 产品与技术负责人 Jooyoung Lee 表示:“通过开创性的关键模式技术创新,我们已经引领了近30年的DRAM市场。如今,三星正在通过多层EUV建立起另一个技术的里程碑,实现更加微型化的14纳米工艺,这是传统氟化氩 (ArF) 制程无法做到的。在此基础上,我们将继续为 5G、AI 和虚拟世界中需要更高性能和更大容量的数据驱动计算,提供最具差异化的内存解决方案。”
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